Müller, H. H. (1996). Lithographie mit Hexadecanthiol als hochauflösendem Resist für niederenergetische Elktronen.
Chicago Style (17th ed.) CitationMüller, Harald Heinrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elktronen. 1996.
MLA (9th ed.) CitationMüller, Harald Heinrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elktronen. 1996.
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