APA (7th ed.) Citation

Müller, H. H. (1996). Lithographie mit Hexadecanthiol als hochauflösendem Resist für niederenergetische Elktronen.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Müller, Harald Heinrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elktronen. 1996.

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Müller, Harald Heinrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elktronen. 1996.

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