Lithographie mit Hexadecanthiol als hochauflösendem Resist für niederenergetische Elktronen
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
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| Dokumenttyp: | Buch/Monographie Hochschulschrift |
| Sprache: | Deutsch |
| Veröffentlicht: |
1996
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| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: |
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| Verfasserangaben: | vorgelegt von Harald Heinrich Müller |
| Beschreibung: | Nicht für den Austausch |
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