Numerical simulation of chemical downstream etching

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Riedel, Uwe (VerfasserIn)
Dokumenttyp: Buch/Monographie Arbeitspapier
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Heidelberg IWR 1997
Schriftenreihe:Preprint / Interdisziplinäres Zentrum für Wissenschaftliches Rechnen der Universität Heidelberg 97,19
In: Preprint / Interdisziplinäres Zentrum für Wissenschaftliches Rechnen, IWR (97,19)

Schlagworte:
Online-Zugang: Volltext
Verfasserangaben:Uwe Riedel. IWR, Interdisziplinäres Zentrum für Wissenschaftliches Rechnen der Universität Heidelberg
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